微機泥漿比重計 各種流體半流體或混合液密度檢測儀 濃度計
型號:HG14-KF-102
一、密度(濃度)測量系列儀表的基本原理
由放射源產(chǎn)生的伽瑪射線穿過管道中的被測介質(zhì),其中一部分射線被介質(zhì)散射和吸收,剩余部分射線被安裝在管道另一邊的探測器所接收,介質(zhì)吸收了多少射線,與被測介質(zhì)的密度呈指數(shù)吸收規(guī)律:
I=I0·e-upd
三、儀表的主要用途
該系列儀表是通用型在線測量儀表,可廣泛用于石油開采、煉油、化工、煤炭、冶金、礦山、輕紡、水利、食品等工業(yè)部門。由于是非接觸式在線測量,因此特別適用于高溫、高壓、高粘度、ju毒、深冷、易燃、易爆的密閉系統(tǒng)中工藝參數(shù)的在線測量(例如密度、濃度、瞬時質(zhì)量流量),這是常規(guī)儀表*的。
核子皮帶秤 | 密度(濃度)測量系列儀表 | 料位測量系列儀表 | 電腦加藥機
1、在線密度計
可測定各種流體、半流體或混合液的密度。例如可在線測量鉆井泥漿、固井泥漿、壓裂液、砂漿、礦漿、混凝土、糖漿、紙漿、石油產(chǎn)品、水煤漿、浮選液的隨機密度,精度zui高可達5×10-4 克/立方厘米。
1、電腦控制實現(xiàn)儀表智能化
選用ATMEL 89C51單片機,8K-EPROM、2K-E2PROM、8K-RAM ,4只發(fā)光二極管作測量、電源、報警,可鍵盤輸入各種工藝參數(shù),可鍵盤選擇顯示參數(shù)類型及電流輸出類型,雙四位數(shù)碼管顯示工藝參數(shù)。
2、密度、濃度、質(zhì)量流量高精度測量
3、高可靠性、高穩(wěn)定性
進口元件組裝,嚴(yán)格的生產(chǎn)工藝,嚴(yán)格的例行實驗,新式的穩(wěn)峰技術(shù)確保儀表長期穩(wěn)定的運行。
4、現(xiàn)場安裝調(diào)試簡單,操作方便
管道卡式安裝,采用量程內(nèi)兩點標(biāo)定法,可選擇顯示多種工藝參數(shù),停電、重新來電無需進行任何操作,儀表自動轉(zhuǎn)入在線測量狀態(tài),維護量小。
5、多功能,充分滿足生產(chǎn)工藝需要
儀表可同時測量密度、濃度、瞬時質(zhì)量流量及累計干礦量,并有數(shù)據(jù)存儲功能,在在線測量過程中可隨時調(diào)出并顯示所需工藝參數(shù)。
6、快速靈敏,時間常數(shù)短,統(tǒng)計漲落小
采用特殊技術(shù),將時間常數(shù)縮短到2~5秒,統(tǒng)計漲落卻非常低,該指標(biāo)遠遠超過國內(nèi)外同類儀表水平,可構(gòu)成高質(zhì)量自動控制系統(tǒng)。
7、完善的自檢和自調(diào)試功能
8、采用電可擦除技術(shù),標(biāo)定常數(shù)永遠不會丟失和沖亂。
9、特殊的抗干擾措施,在強干擾工業(yè)現(xiàn)場仍能正常穩(wěn)定的運行。
10、安全性能高
儀表選用銫-137放射源,所用強度與國內(nèi)外儀表相比zui小。一般使用2~5毫居,管道直徑為450毫米時,只需用20毫居。這在國內(nèi)外是*的、*的。射源容器有鎖閉開關(guān),泄漏量距放射源1米處,遠低于國家規(guī)定的居民安全標(biāo)準(zhǔn),用戶可放心大膽的使用。
主要技術(shù)指標(biāo)如下:
●密度測量范圍: 0.3~3克/立方厘米
●密度測量精度: 0.0005~0.08克/立方厘米
0.0002克/立方厘米(zui高精度)
●濃度測量精度: 0.2%~1%
●流量測量精度: ±0.2~±0.5%(為配套流量計的精度)
●質(zhì)量流量測量精度: 優(yōu)于±1.0%(質(zhì)量流量率一般可在±0.5%)
●累計時間: 可按小時、班、天累計,zui長達一個月
●穩(wěn)定性: 現(xiàn)場長期運行,確保運行精度
●測量管徑: 70~450毫米
●放射源強度: 1~20毫居
●電纜信號傳輸能力: 1000米
●防爆探頭等級: dⅡc(舊規(guī)則為B4e)
●泄漏劑量: 16微西弗/天
●時間常數(shù): 2~5秒(快速)、64秒(慢速)
●環(huán)境溫度: 主機0~45℃,探頭-20~+65℃
●環(huán)境濕度: 主機85%,探頭95%(相對濕度)
●輸出信號: 雙四位顯示,顯示參數(shù)及輸出信號類型可鍵盤選擇。
●上下限報警: 可鍵盤設(shè)置,如果用戶需要可提供繼電器觸點輸出
●放射源衰減: 微機自動補償
●主機外形尺寸: 143×73×310毫米,主機開孔尺寸為138×68毫米
●安裝形式: 主機為盤式安裝方式,探測器為管道卡式安裝
主要:主機一套,探測器一個,安裝架一套,(適合小于250毫米的管徑,管徑大于250毫米用戶自備),放射源及容器一個。
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